什么叫离子反应_什么叫离子反应

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...此方法形成了离子液体体系,促进了二氧化碳的吸收与转化,反应收率最...包括步骤:将叔丁醇盐和乙二醇二醚类化合物在溶剂中混合,搅拌下通入CO2吸收;加入有机碱催化剂,滴加羰基化试剂进行羰基化反应,反应结束后对产物淬灭纯化得到二碳酸二叔丁酯。不同于传统的一般溶剂,此方法形成了离子液体体系,促进了二氧化碳的吸收与转化,反应收率最高可达88...

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拓荆科技取得等离子体反应器专利,该专利技术能简化加工过程,消除...金融界2024年2月24日消息,据国家知识产权局公告,拓荆科技股份有限公司取得一项名为“一种等离子体反应器“,授权公告号CN114300336B,申请日期为2021年12月。专利摘要显示,本发明提供一种等离子体反应器,包括反应器腔室,所述反应器腔室设有第一抽气环、第二抽气环、喷头...

中微公司获得发明专利授权:“零部件、等离子体反应装置及零部件...证券之星消息,根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“零部件、等离子体反应装置及零部件加工方法”,专利申请号为CN202010361663.1,授权日为2024年4月12日。专利摘要:本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种零部件、等离子体反应装置及零...

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中微公司获得发明专利授权:“电容式薄膜真空计、等离子体反应装置...证券之星消息,根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“电容式薄膜真空计、等离子体反应装置和膜层制备方法”,专利申请号为CN202010740454.8,授权日为2024年4月5日。专利摘要:本发明涉及半导体加工技术领域,具体公开了一种电容式薄膜真空计...

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...专利授权:“零部件、其形成涂层的方法及装置和等离子体反应装置”证券之星消息,根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“零部件、其形成涂层的方法及装置和等离子体反应装置”,专利申请号为CN202010361061.6,授权日为2024年1月26日。专利摘要:本发明属于等离子体刻蚀技术领域,公开了一种形成耐等离子体涂...

三星取得EUV产生装置专利,由于入射光与等离子体反应气体之间的...供应等离子体反应气体。导光通道包括:入射部分,接收入射光;等离子体反应部分,在第一方向上从入射部分延伸,以由于入射光与等离子体反应气体之间的相互作用而产生EUV光;以及发射部分,在第一方向上从等离子体反应部分延伸,以在第一方向上发射EUV光。气体供应通道可以在气体...

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＞△＜ 捷佳伟创新注册《反应式等离子体镀膜设备点火软件控制系统V1.0.0.0...证券之星消息,近日捷佳伟创(300724)新注册了2个项目的软件著作权,包括《反应式等离子体镀膜设备点火软件控制系统V1.0.0.0》、《反应式等离子体镀膜设备靶材供应软件控制系统V2.0.0.0》等。今年以来捷佳伟创新注册软件著作权3个。结合公司2023年中报财务数据,2023上半年公...

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ˋ﹏ˊ 拓荆科技申请反应腔内等离子体特性的检测系统专利,提升等离子体...金融界2023年12月13日消息,据国家知识产权局公告,拓荆科技股份有限公司申请一项名为“反应腔内等离子体特性的检测系统、检测方法及存储介质“,公开号CN117219481A,申请日期为2023年9月。专利摘要显示,本发明提供了一种反应腔内等离子体特性的检测系统、一种半导体器件...

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中微公司获得发明专利授权:“耐等离子体腐蚀零部件和反应装置及...证券之星消息,根据企查查数据显示中微公司(688012)新获得一项发明专利授权,专利名为“耐等离子体腐蚀零部件和反应装置及复合涂层形成方法”,专利申请号为CN202010548392.0,授权日为2023年12月29日。专利摘要:本发明涉及半导体加工技术领域,具体公开了一种耐等离子体腐...

拓荆科技获得实用新型专利授权:“反应腔内等离子体特性的检测系统...证券之星消息,根据企查查数据显示拓荆科技(688072)新获得一项实用新型专利授权,专利名为“反应腔内等离子体特性的检测系统及半导体器件的加工设备”,专利申请号为CN202322494973.2,授权日为2024年6月7日。专利摘要:本实用新型提供了一种反应腔内等离子体特性的检测系统...